A process for etching and chamber cleaning and a gas therefor

WO2015173003 Art A1 19. November 2015

Anmelder: Solvay SA, Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015173003
Aktenzeichen: EP15719467
Anmeldetag: 28. April 2015
Veröffentlichung: 19. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00C23C16/44H01L21/02H01L21/311H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Solvay SA
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 Solvay

Belgischer Chemiekonzern mit Sitz in Brüssel, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Materialien und Kunststoffe für Industrie und Konsumgüter. Das Unternehmen wurde 1863 gegründet.

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🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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