Particle removal device and method of operating thereof
WO2015174981
Art A1
19. November 2015
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015174981
- Aktenzeichen
- EP14732482
- Anmeldetag
- 15. Mai 2014
- Veröffentlichung
- 19. November 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B08B1/02B08B5/02C23C16/44H01L21/67B65G45/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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