Deposition apparatus for deposition of a material on a substrate and method for depositing a material on a substrate

WO2015176751 Art A1 26. November 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015176751
Aktenzeichen: EP14727177
Anmeldetag: 20. Mai 2014
Veröffentlichung: 26. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/56C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von