X-ray generation target, examination system, control device, control method, and control program
WO2015178228
Art A1
26. November 2015
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015178228
- Aktenzeichen
- EP15795926
- Anmeldetag
- 8. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 26. November 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J35/08G01N23/04H05G1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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