Resist underlayer film forming composition for lithography containing polymer that contains blocked isocyanate structure

WO2015178235 Art A1 26. November 2015

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015178235
Aktenzeichen: EP15795664
Anmeldetag: 11. Mai 2015
Veröffentlichung: 26. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26H01L21/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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