Sintered oxide, sputtering target, and oxide semiconductor thin-film obtained using same

WO2015178429 Art A1 26. November 2015

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015178429
Aktenzeichen: EP15795408
Anmeldetag: 20. Mai 2015
Veröffentlichung: 26. November 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/00C23C14/08C23C14/34H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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