Carrier and method for supporting a substrate in a vacuum processing chamber

WO2015180798 Art A1 3. Dezember 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015180798
Aktenzeichen: EP14729257
Anmeldetag: 30. Mai 2014
Veröffentlichung: 3. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/50C23C14/56C23C16/458C23C16/54G03F7/20H01J37/32H01L21/67H01L21/673H01L21/677H01L21/687C03B35/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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