Method and system for pattern dimension measurement using charged particle beam

WO2015182224 Art A1 3. Dezember 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015182224
Aktenzeichen: EP15799150
Anmeldetag: 19. März 2015
Veröffentlichung: 3. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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