Apparatuses and methods for performing wear leveling operations

WO2015183443 Art A1 3. Dezember 2015

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015183443
Aktenzeichen: EP15800591
Anmeldetag: 24. April 2015
Veröffentlichung: 3. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G06F12/06G06F12/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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