Vapor deposition mask, vapor deposition mask with frame, vapor deposition mask precursor, and method for manufacturing organic semiconductor element
WO2015186632
Art A1
10. Dezember 2015
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015186632
- Aktenzeichen
- EP15802484
- Anmeldetag
- 29. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/24H01L51/50H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
1.824 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.