Anti-reflective coating cleaning and post-etch residue removal composition having metal, dielectric and nitride compatibility
WO2015187675
Art A2
10. Dezember 2015
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015187675
- Aktenzeichen
- EP15802439
- Anmeldetag
- 2. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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