Impurity adding apparatus, impurity adding method, and semiconductor element manufacturing method

WO2015189875 Art A1 17. Dezember 2015

Anmelder: Fuji Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015189875
Aktenzeichen: EP14894407
Anmeldetag: 12. Juni 2014
Veröffentlichung: 17. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/22H01L21/228

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fuji Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fuji Electric

Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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