Method for cleaning ge substrate for device, cleaning-water-supplying device, and cleaning device
WO2015189933
Art A1
17. Dezember 2015
Anmelder: Kurita Water Industries Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015189933
- Aktenzeichen
- EP14894446
- Anmeldetag
- 11. Juni 2014
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kurita Water Industries Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kurita Water Industries
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Wasseraufbereitungstechnologien und Chemikalien für industrielle Anwendungen.
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