Dissolution inhibitor for chemically amplified thick film photoresist, photoresist composition containing same, and method for patterning element by using same
WO2015194910
Art A1
23. Dezember 2015
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015194910
- Aktenzeichen
- EP15810461
- Anmeldetag
- 19. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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