Flaw observation method and device and flaw detection device

WO2015198781 Art A1 30. Dezember 2015

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015198781
Aktenzeichen: EP15812644
Anmeldetag: 27. Mai 2015
Veröffentlichung: 30. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01B11/30G01N21/84H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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