Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film using sputtering target

WO2015199121 Art A1 30. Dezember 2015

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015199121
Aktenzeichen: EP15812027
Anmeldetag: 24. Juni 2015
Veröffentlichung: 30. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/00C01G15/00C23C14/08C23C14/34H01L21/20H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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