Sputtering target, optical functional film, and laminated wiring film

WO2015199155 Art A1 30. Dezember 2015

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015199155
Aktenzeichen: EP15811578
Anmeldetag: 24. Juni 2015
Veröffentlichung: 30. Dezember 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00C22C9/00C22C9/05C22C9/06C22C27/04C22C28/00C22C38/00C22C38/12C23C14/08G02B1/113

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

1.978 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von