Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes aus mehreren Flüssigen oder Festen Ausgangsstoffen für eine Cvd- oder Pvd-Einrichtung

WO2016000944 Art A1 7. Januar 2016

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016000944
Aktenzeichen: EP15731538
Anmeldetag: 16. Juni 2015
Veröffentlichung: 7. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/12C23C14/26C23C16/448C23C16/455C23C14/24C23C14/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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