Rotation mechanism and film thickness monitor including same
WO2016002122
Art A1
7. Januar 2016
Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016002122
- Aktenzeichen
- EP15815781
- Anmeldetag
- 15. Mai 2015
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- F16C35/067F16C19/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ULVAC, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
ULVAC
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.
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