Pattern measurement method and pattern measurement device

WO2016002341 Art A1 7. Januar 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016002341
Aktenzeichen: EP15814821
Anmeldetag: 11. Mai 2015
Veröffentlichung: 7. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/00H01J37/28H01J37/317H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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