Composition for forming passivation layer, semiconductor substrate with passivation layer, method for producing semiconductor substrate with passivation layer, solar cell element, method for manufacturing solar cell element, and solar cell

WO2016002901 Art A1 7. Januar 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016002901
Aktenzeichen: EP15816019
Anmeldetag: 2. Juli 2015
Veröffentlichung: 7. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/0216H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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