Method for producing passivation layer formation composition, semiconductor substrate provided with passivation layer, method for producing same, solar cell element, method for producing same, and solar cell

WO2016002902 Art A1 7. Januar 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016002902
Aktenzeichen: EP15814133
Anmeldetag: 2. Juli 2015
Veröffentlichung: 7. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/0216H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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