Semiconductor device and method for manufacturing same

WO2016002916 Art A1 7. Januar 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Osaka University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016002916
Aktenzeichen: EP15815093
Anmeldetag: 26. Juni 2015
Veröffentlichung: 7. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336H01L21/316H01L21/318H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Osaka University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.047 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von