Verfahren zur Lokalisierung von Defekten auf Substraten

WO2016005420 Art A1 14. Januar 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016005420
Aktenzeichen: EP15734407
Anmeldetag: 8. Juli 2015
Veröffentlichung: 14. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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