Photosensitive conductive film, conductive film set and method of manufacturing surface protection film and base film having conductive pattern using same, and method of manufacturing base film having conductive pattern

WO2016006024 Art A1 14. Januar 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016006024
Aktenzeichen: EP14897193
Anmeldetag: 7. Juli 2014
Veröffentlichung: 14. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01B5/14B32B15/08B32B27/12H01B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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