Film thickness control device, film thickness control method, and film formation device

WO2016009626 Art A1 21. Januar 2016

Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016009626
Aktenzeichen: EP15822638
Anmeldetag: 10. Juli 2015
Veröffentlichung: 21. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/52G01B17/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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