Lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2016012174 Art A1 28. Januar 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016012174
Aktenzeichen: EP15730205
Anmeldetag: 23. Juni 2015
Veröffentlichung: 28. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von