Abbildende Optik für ein Metrologiesystem zur Untersuchung einer Lithographiemaske

WO2016012425 Art A2 28. Januar 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016012425
Aktenzeichen: EP15739290
Anmeldetag: 21. Juli 2015
Veröffentlichung: 28. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/08G02B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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