Method for forming organic monomolecular film and surface treatment method

WO2016013270 Art A1 28. Januar 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016013270
Aktenzeichen: EP15825204
Anmeldetag: 1. Mai 2015
Veröffentlichung: 28. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/365B01J19/08B32B9/00H01L21/3065H01L51/05H01L51/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von