Sputtering target for forming magnetic thin film

WO2016013334 Art A1 28. Januar 2016

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016013334
Aktenzeichen: EP15825106
Anmeldetag: 18. Juni 2015
Veröffentlichung: 28. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C19/07G11B5/64G11B5/84C22C1/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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