Photosensitive resin composition, photosensitive film, pattern substrate, photosensitive conductive film, and conductive pattern substrate

WO2016013587 Art A1 28. Januar 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd., Shanghai Jiao Tong University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016013587
Aktenzeichen: EP15824590
Anmeldetag: 22. Juli 2015
Veröffentlichung: 28. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031B32B27/00C08F2/50G03F7/004G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Shanghai Jiao Tong University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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