Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

WO2016014442 Art A1 28. Januar 2016

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016014442
Aktenzeichen: EP15824826
Anmeldetag: 20. Juli 2015
Veröffentlichung: 28. Januar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H05H1/46H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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