Pattern height measurement device and charged particle beam device
WO2016016957
Art A1
4. Februar 2016
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016016957
- Aktenzeichen
- EP14898886
- Anmeldetag
- 30. Juli 2014
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/02G01B15/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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