Film formation method, vacuum treatment device, method for producing semiconductor light-emitting element, semiconductor light-emitting element, method for producing semiconductor electronic element, semiconductor electronic element, and lighting device
WO2016017047
Art A1
4. Februar 2016
Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016017047
- Aktenzeichen
- EP15827565
- Anmeldetag
- 23. März 2015
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/203C23C14/34H01L21/363H01L33/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Anelva Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon Anelva
Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.
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