Substrate processing method, computer storage medium and substrate processing system
WO2016017415
Art A1
4. Februar 2016
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016017415
- Aktenzeichen
- EP15828314
- Anmeldetag
- 14. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F7/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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