Substrate processing device

WO2016017510 Art A1 4. Februar 2016

Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016017510
Aktenzeichen
EP15828080
Anmeldetag
23. Juli 2015
Veröffentlichung
4. Februar 2016
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34B65G49/06C23C14/56H01L21/285H01L21/677
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ULVAC, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Vertreten von

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