Film comprising graphene oxide and clay, preparation method therefor, and use thereof as oxygen barrier film

WO2016017857 Art A1 4. Februar 2016

Anmelder: Korea Institute of Industrial Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016017857
Aktenzeichen
EP14898805
Anmeldetag
17. Oktober 2014
Veröffentlichung
4. Februar 2016
Rechtsraum
WO
IPC
B01D71/02B01D71/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Korea Institute of Industrial Technology
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

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