Low-temperature formation of silicon and silicon oxide structures
WO2016018144
Art A1
4. Februar 2016
Anmelder: Technische Universiteit Delft 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016018144
- Aktenzeichen
- EP15751142
- Anmeldetag
- 22. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C18/12C08G77/60C09D4/00C09D183/16C23C18/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Technische Universiteit Delft
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
Technische Universiteit Delft
Niederländische Technische Universität in Delft mit breiter Forschung in Ingenieurwissenschaften und angewandter Technik.
569 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.