X-ray apparatus and structure production method

WO2016021031 Art A1 11. Februar 2016

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016021031
Aktenzeichen: EP14899119
Anmeldetag: 7. August 2014
Veröffentlichung: 11. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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