System and method to reduce oscillations in extreme ultraviolet light generation

WO2016022267 Art A1 11. Februar 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016022267
Aktenzeichen: EP15830361
Anmeldetag: 16. Juli 2015
Veröffentlichung: 11. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G21K5/00H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von