Maske für die Euv-Lithographie, Euv-Lithographieanlage und Verfahren zum Bestimmen eines durch Duv-Strahlung Hervorgerufenen Kontrastanteils

WO2016023737 Art A1 18. Februar 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016023737
Aktenzeichen: EP15742033
Anmeldetag: 27. Juli 2015
Veröffentlichung: 18. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/58G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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