Vakuumsystem, insbesondere Euv-Lithografiesystem, und Optisches Element

WO2016023802 Art A1 18. Februar 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016023802
Aktenzeichen: EP15745499
Anmeldetag: 5. August 2015
Veröffentlichung: 18. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B17/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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