Element, insulating film, method for producing same, and radiation sensitive resin composition

WO2016024425 Art A1 18. Februar 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016024425
Aktenzeichen: EP15831266
Anmeldetag: 14. Mai 2015
Veröffentlichung: 18. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023C08G8/10G03F7/075G09F9/30H01L51/50H05B33/10H05B33/12H05B33/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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