Mask blank provided with resist film, method for producing same, and method for producing transfer mask

WO2016024473 Art A1 18. Februar 2016

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016024473
Aktenzeichen: EP15832419
Anmeldetag: 27. Juli 2015
Veröffentlichung: 18. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/20G03F1/50G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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