Process for reducing the level of chloride in chlorosilane direct process hydrolyzed substrate

WO2016025290 Art A1 18. Februar 2016

Anmelder: Momentive Performance Materials Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016025290
Aktenzeichen: EP15756507
Anmeldetag: 6. August 2015
Veröffentlichung: 18. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C04B5/00C07F7/08C07F7/12C07F7/20C10B53/00C10B57/00C22B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Momentive Performance Materials Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Momentive Performance Materials Inc.

US-amerikanischer Chemiekonzern, spezialisiert auf Silikone und Quarzprodukte, hervorgegangen aus der Silikonsparte von General Electric. Patente betreffen vor allem Silikonchemie und Spezialmaterialien.

771 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

Vertreten von