Gas supply system, plasma processing device and method for operating plasma processing device

WO2016027685 Art A1 25. Februar 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016027685
Aktenzeichen: EP15834470
Anmeldetag: 6. August 2015
Veröffentlichung: 25. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C16/455C23C16/509H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von