Stripping composition for removing photoresist and a method, for peeling photoresist, using same
WO2016027985
Art A1
25. Februar 2016
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016027985
- Aktenzeichen
- EP15833488
- Anmeldetag
- 10. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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