A High Power Impulse Magnetron Sputtering Process To Achieve A High Density High SP3 Containing Layer

WO2016028640 Art A1 25. Februar 2016

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016028640
Aktenzeichen: EP15834383
Anmeldetag: 14. August 2015
Veröffentlichung: 25. Februar 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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