Methods and devices for deposition of materials on patterned substrates
WO2016029028
Art A1
25. Februar 2016
Anmelder: Massachusetts Institute Of Technology 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016029028
- Aktenzeichen
- EP15763135
- Anmeldetag
- 20. August 2015
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Massachusetts Institute Of Technology
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Massachusetts Institute of Technology
US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.
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