Measuring method, measurement apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2016030031 Art A1 3. März 2016

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016030031
Aktenzeichen: EP15726929
Anmeldetag: 29. Mai 2015
Veröffentlichung: 3. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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